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电子半导体废水处理案例|电子半导体废水处理方法

华东某LED外延性片制作工业企业,因制作时中利用砷化镓、磷化补救铟等III-V族有机物,废水里含砷(As)、镉(Cd)、铅(Pb)等血本属,装修设计补救建设规模1200吨/日。 化工废水有效成分及主要来源 MOCVD主设备清晰电镀废水 :含三级甲等基镉、三级甲等基铟等有机会铝合金无机化合物 激光切割抛光废水处理工艺 :含nm级铝合金粉末 真空镀膜污废水 :含铜、镍等金屬正离子 处理工艺程序程序 什么是创新选取"脱色破络+高价属收集+膜破乳"团体新工艺: 异常处理第一单元 :加药氢氧化钙转换无机材料络合物 中心正确处理单位 : 动用DTCR天价属收集剂变成不溶解性螯合物 超滤膜系统(UF)挤占大原子感染物 反渗透设备法(RO)脱盐率>98% 工业废水办理单无 :离心力脱水烘干后授权委托危废治疗治疗机构应急处置 结果使用效果 经第二方检验: 总砷成分:0.05mg/L(新国标0.5mg/L) 镉的含量:0.01mg/L(国家行业标准0.1mg/L) 水工业废水处理率:75% 作业人工成本:3.8元/吨水

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